エレクトロニクス向け洗浄剤の生産拠点を中国に新設
昭和電工株式会社
昭和電工株式会社は、半導体や液晶パネルの製造工程でフォトレジストの洗浄（※1）や溶媒（※2）として使用される高純度シクロヘキサノンの生産設備を、中国浙江省の同社51％出資の子会社『浙江衢州巨化昭和電子化学材料有限公司』（以下、巨化昭和）に設置し、2010年8月より量産を開始する。年産能力は5千トン。合弁のパートナーである巨化集団公司から、原料のシクロヘキサノンを調達し、巨化昭和において、当社の精製技術により高純度シクロヘキサノンを生産する。当社は、生産設備を中国に新たに設置することにより、高品質の高純度シクロヘキサノンの安定供給体制を構築し、本事業の基盤強化を図る。
今後電子回路の一層の微細化が進むことにより、半導体製造工程におけるフォトレジストの洗浄剤として使用される高品質の高純度シクロヘキサノンの需要は、着実に伸長することが予想される。また中国における液晶パネルの生産拡大に伴い、フォトレジスト溶媒用の需要増加も期待できる。同社は精製から販売に至る一貫体制の構築により、これまでの洗浄剤事業で培った高純度化プロセスならびに品質保証体制を巨化昭和に整えるとともに、お客様への安定供給を実現する。
同社は、有機・無機系の各種洗浄剤『ソルファイン』シリーズを様々な産業分野向けに販売している。今般の高純度シクロヘキサノンの生産・販売一貫体制の構築により、特にエレクトロニクス分野向け『ソルファイン』事業の強化を図る。また、既存の『ソルファイン』の生産拠点である徳山事業所（山口県周南市）ならびに『台湾昭和化学品製造股份有限公司』（台湾・台南市）に、巨化昭和を加えることにより、エレクトロニクス分野での高い成長が続くアジア地区における安定供給体制を整備し、お客様のニーズに応える。
（※1） フォトレジストの洗浄：フォトレジストとは、光や電子線の照射により物性が変化する組成物。フォトレジストを基板に塗布し、露光・現像等の工程を経て、基板上に電子回路を形成する。工程中では、不要部分のフォトレジストを除去するための洗浄が必要となる。
(※2) 溶媒：フォトレジストなどの組成物を溶解させるための液体。溶媒にフォトレジストを溶かすことによりフォトレジストの濃度を任意に調整することが可能。